鉻酸霧的來源：
 

　　1、電鍍工藝：
 

　　在鍍鉻等電鍍過程中，電鍍槽液中含有鉻酸等成分。當(dāng)電鍍過程中電極表面發(fā)生析氫等反應(yīng)時，會產(chǎn)生細(xì)小的氣泡，這些氣泡在上升過程中會將槽液中的鉻酸帶出液面，形成鉻酸霧。特別是在高電流密度、高溫度以及攪拌的情況下，鉻酸霧的產(chǎn)生量會變多。
 

　　2、陽極氧化工藝：
 

　　某些金屬材料進(jìn)行陽極氧化處理時，使用的電解液中可能含有鉻酸。在陽極氧化過程中，由于電極反應(yīng)和溶液的對流等原因，也會導(dǎo)致鉻酸霧的產(chǎn)生。

　　鉻酸霧凈化塔電鍍槽鉻酸處理工藝：
 

　　1、液體吸收法
 

　　原理：用吸收液與鉻酸霧發(fā)生化學(xué)反應(yīng)或物理溶解作用，將鉻酸霧從廢氣中吸收處理。
 

　　設(shè)備：一般采用填料塔、噴淋塔等吸收設(shè)備。廢氣從塔底進(jìn)入，吸收液從鉻酸霧凈化塔塔頂噴淋而下，在填料或塔板的作用下，氣液充分接觸，實現(xiàn)鉻酸霧的吸收。
 

　　2、活性炭吸附法
 

　　原理：活性炭比表面積和豐富的微孔結(jié)構(gòu)，對鉻酸霧有較好的吸附能力。鉻酸霧分子通過物理吸附作用被吸附在活性炭的表面和微孔中，從而使廢氣得到凈化。
 

　　設(shè)備：通常采用固定床吸附器，廢氣通過裝有活性炭的床層，鉻酸霧被吸附。
 

　　3、靜電除霧法
 

　　原理：利用高壓電場使鉻酸霧粒子荷電，在電場力的作用下，荷電粒子向電極移動并沉積在電極上，從而實現(xiàn)鉻酸霧與廢氣的分離。
 

　　設(shè)備：主要由電暈極、集塵極、高壓電源等部分組成。廢氣通過靜電除霧器時，在高壓電場的作用下，鉻酸霧粒子被電離并帶上電荷，向集塵極移動并被收集。